Çin’in yarı iletken sektöründeki üst düzey yöneticiler, litografi teknolojisinde dışa bağımlılığı azaltmak için yeni bir adım atılmasını istedi. Yayımlanan bir makalede, Hollandalı yarı iletken ekipmanı üreticisi ASML ile rekabet edebilecek yerli bir şirket kurulması için ulusal seferberlik çağrısı yapıldı.
Makale, Naura Technology Group Başkanı Zhao Jinrong, Yangtze Memory Technologies Corp yöneticisi Chen Nanxiang ve Empyrean Technology Başkanı Liu Weiping gibi isimlerin katkılarıyla hazırlandı. Yazıda, 2026–2030 döneminde operasyonel litografi sistemlerinin geliştirilmesi için kapsamlı bir ulusal program başlatılması gerektiği ifade edildi.
Yarı iletken üretiminde kritik öneme sahip olan EUV litografi makineleri, akıllı telefonlardan yapay zekâ sistemlerine kadar birçok ileri teknoloji ürününün üretiminde kullanılıyor. Bu alanda küresel ölçekte üretim yapabilen tek şirket ise ASML olarak biliniyor.
Çin’in son yıllarda lazer ışık kaynakları, optik sistemler ve wafer üretimi gibi alanlarda ilerleme kaydettiği belirtilse de, tüm bileşenlerin entegre edildiği tam işlevsel bir litografi sistemi geliştirilmesinin hâlâ büyük teknik zorluklar içerdiği vurgulandı.
Öte yandan Çin hükümeti yarı iletken sektörünü stratejik öncelikler arasında konumlandırmaya devam ediyor. Ülkenin 28 nanometre ve üzerindeki üretim süreçlerinde küresel kapasitenin yaklaşık yüzde 33’ünü oluşturduğu ifade ediliyor.